米中半導体摩擦（米中半導体戦争）
米中半導体摩擦（米中半導体戦争）について、 その背景・経過・現在の状況・影響分野を簡潔に整理して解説します。
✅ 米中半導体摩擦とは？
📜 背景と経過（年表）
| 年代 | 主な出来事 |
|---|---|
| 2018年 | トランプ政権、ZTEに対する輸出禁止措置（米技術依存の脆弱性が露呈） |
| 2019年 | Huaweiをエンティティリストに追加。Google・ARMとの取引制限開始 |
| 2020年 | ASML製EUV露光装置の中国輸出を米国が間接的に阻止（オランダ政府へ圧力） |
| 2021年 | バイデン政権も強硬路線を継続。「国家技術戦略」構想を打ち出す |
| 2022年 | 米商務省が先端AIチップ・EDAソフトの対中輸出を大幅制限 |
| 2023年 | 日本・オランダが米国と協調し、先端製造装置の対中輸出を規制 |
| 2024年 | 中国が反撃としてレアアース・半導体素材の輸出規制に動く（例：ガリウム） |
🧭 対立の主軸と論点
| 領域 | 米国の狙い | 中国の狙い |
|---|---|---|
| 📐 設計技術 | EDAソフト、IPコアを通じた技術支配 | 国産EDA（華大九天など）による自立 |
| ⚙ 製造装置 | EUV・ドライエッチ・検査装置の輸出規制 | SMICの7nm対応など装置の国産化 |
| 🧠 AI半導体 | NVIDIA A100・H100などの先端チップを規制 | 百度や阿里巴巴が開発中の国産AIチップの育成 |
| 🚀 軍事転用防止 | AI・量子・高性能計算が軍事応用される懸念 | 民間技術と軍の境界があいまいな融合政策 |
📊 主な規制対象（米国）
| 規制対象 | 対象企業／国 | 備考 |
|---|---|---|
| 先端AI半導体（7nm以下） | Huawei, SMIC など中国主要企業 | A100, H100などを含む |
| EUV露光装置 | ASML（オランダ製） | ASMLに対する「対中供給の抑止圧力」 |
| EDAソフト | Synopsys, Cadence, Siemens | 設計段階から制御可能 |
| 半導体素材・製造機器 | 東京エレクトロン, アプライドなど | 日本・オランダと政策連携 |
🏭 影響と現状（2025年時点）
・SMIC 7nm製造に一部成功（ただしEUVなし）
・長江存儲（YMTC） NANDフラッシュを米企業に迫る水準に
・Hygon CPU国産化に取り組む（x86互換）
・GaN／SiCなどの新素材半導体を国家主導で育成
・CHIPS Act（米）により、Intel・TSMCの米国内製造誘致
・日本・オランダと連携し「技術包囲網」を形成
・サプライチェーンの“脱中国”回避策をASEAN・インドに分散
🎯 まとめ これは経済ではなく「技術の冷戦」である
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